儀器簡(jiǎn)介：

XD鍍層測(cè)厚儀是一款專(zhuān)用于檢測(cè)各種異形件，特別適用于五金類(lèi)模具、衛(wèi)浴產(chǎn)品、線(xiàn)路板以及高精密電子元器件表面處理的成分和厚度分析。

該系列儀器不但可以應(yīng)對(duì)平面、微小樣品的檢測(cè)，在面對(duì)凹槽曲面深度0-90mm以?xún)?nèi)的異形件具備巨大的優(yōu)勢(shì)。

被廣泛用于各類(lèi)產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來(lái)料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：

• *EFP算法：多層多元素、各種元素及有機(jī)物，甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測(cè)量

• 上照式設(shè)計(jì)：實(shí)現(xiàn)可對(duì)超大工件進(jìn)行快、準(zhǔn)、穩(wěn)高效率測(cè)量

• 自動(dòng)對(duì)焦：高低大小樣品可快速清晰對(duì)焦

• 變焦裝置算法：可對(duì)0-90mm深度的凹槽高低落差件直接檢測(cè)

• 小面積測(cè)量：最小測(cè)量面積0.002mm2

• 可編程自動(dòng)位移：選配自動(dòng)平臺(tái)，X210*Y230*Z145mm行程內(nèi)無(wú)人值守自動(dòng)測(cè)量

XD-1000XRF膜厚測(cè)試儀器技術(shù)指標(biāo)

xrf膜厚測(cè)試儀器多變量非線(xiàn)性回收程序

度適應(yīng)范圍為15℃至30℃。

任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型。

相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型。

型號(hào)：XD-1000

元素分析范圍從硫(S)到鈾（U）。

同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。

分析含量一般為ppm到99.9% 。

鍍層厚度一般在50μm以?xún)?nèi)（每種材料有所不同）

電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。

外觀尺寸： 576(W)×495(D)×545(H) mm

樣品室尺寸：500(W)×350(D)×140(H) mm

重量：100kg

XD-1000XRF膜厚測(cè)試儀器性能特點(diǎn)

xrf膜厚測(cè)試儀器定位激光確定定位光斑，確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊

鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái)，鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn)

高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn)

良好的射線(xiàn)屏蔽作用

測(cè)試口高度敏感性傳感器保護(hù)

滿(mǎn)足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測(cè)試需求

φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿(mǎn)足微小測(cè)試點(diǎn)的需求

高精度移動(dòng)平臺(tái)可精確定位測(cè)試點(diǎn)，重復(fù)定位精度小于0.005mm

采用高度定位激光，可自動(dòng)定位測(cè)試高度

應(yīng)用領(lǐng)域

XRF膜厚測(cè)試儀應(yīng)用于金屬鍍層的厚度（鍍銀、鍍金、鍍鎳、鍍鋅、鍍鉻、鍍鈀等）測(cè)量、電鍍液和鍍層含量的測(cè)定,端子連接器、LED、半導(dǎo)體、衛(wèi)浴潔具、PCB、電子電器、氣配五金、珠寶首飾、汽車(chē)配件、制冷設(shè)備、檢測(cè)機(jī)構(gòu)以及研究所和高等院校等衛(wèi)浴等行業(yè)。

標(biāo)準(zhǔn)配置

xrf膜厚測(cè)試儀器開(kāi)放式樣品腔，滿(mǎn)足大樣品測(cè)試

精密二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和X光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。

雙激光定位裝置。

鉛玻璃屏蔽罩。

信號(hào)檢測(cè)電子電路。

高低壓電源。

高度傳感器

保護(hù)傳感器

計(jì)算機(jī)及噴墨打印機(jī)（可以保存和實(shí)時(shí)打?。?/span>